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MicroWriter ML3 Baby Plus

Durham Magneto Optics

O MicroWriter ML®3 Baby Plus é uma máquina de litografia óptica compacta, de alta performance, de baixo custo e de escrita direta, projetada para oferecer custo-benefício sem precedentes em uma pequena área do laboratório.

Medindo apenas 70 cm x 60 cm em sua base, ele fica sobre uma bancada ou mesa de laboratório padrão e se conecta a um laptop. Seu único requisito é uma tomada padrão. Um invólucro que exclui a luz, com interlock de segurança, permite que seja usado tanto em um ambiente de laboratório aberto quanto em uma sala limpa. O software baseado em Windows® fácil de usar implica que a maioria das exposições podem ser configuradas e iniciadas com apenas alguns cliques do mouse. Dois tamanhos mínimos de traço (1 µm e 5 µm) podem ser selecionados automaticamente via software. Isto permite que partes não críticas da exposição sejam realizadas rapidamente ao tamanho mínimo de 5 µm enquanto se mantém a escrita de alta resolução para as partes críticas. O MicroWriter ML®3 Baby Plus também possui um perfilômetro de superfície óptica e uma ferramenta de inspeção de wafer automatizada para examinar estruturas fabricadas.

Características e Especificações

Área máxima de escrita: 149 mm x 149 mm
Tamanho de wafer máximo: 155 mm x 155 mm x 7 mm
Tamanho mínimo de traço na área total de escrita: 1 µm e 5 µm
Fonte de luz semicondutora de vida longa de 405 nm adequada para resists de banda larga g-line e h-line positivos e negativos (ex. S1800, ECI-3000, MiR 701) Fontes de luz de 385 nm e 365 nm disponíveis para substituição, adequadas para photoresists g-, h- e i-line. (ex. SU-8)
Interferômetro XY com resolução de 15 nm para controle preciso de movimentos.
Velocidade de Escrita: até 50 mm²/minuto (tamanho de traço 1 µm) e 180 mm²/minuto (tamanho de traço 5 µm), permitindo que uma área típica de 50 mm x 50 mm, contendo áreas críticas e não críticas, seja exposta em menos de 30 minutos.
Sistema de foco automático usando luz amarela com laser de rastreio em superfície em tempo real – sem tamanho mínimo de wafer.
Câmera de microscópio óptico de conjugado infinito de alta qualidade com lente x3 de objetivo asférico e lente x10 de objetivo planar, e iluminação de luz amarela para alinhamento aos marcadores litográficos no wafer. (precisão de alinhamento ±1µm 3σ).
Mudança automática entre magnificações do microscópio via software – não requer mudança manual da lente. Zoom digital x4 adicional pode ser selecionado via software.
Modo de exposição em escala de cinza para exposição tridimensional (255 níveis de cinza)
API de software para controle e interface externos.
Grid endereçável mínimo de 200 nm; resolução de plataforma de amostra de 15 nm.
Formatos de arquivo compatíveis: CIF, GDS2, BMP, TIFF, JPEG, PNG, GIF.
Ferramenta automática para centragem do wafer baseada em laser
Dimensões externas: 700 mm (l) x 700 mm (c) x 700 mm (a), excluindo o computador.
Invólucro que exclui luz com interlock de segurança.
Projetado para uso em desktop – não requer mesa óptica
Acompanha software de controle baseado em Windows® fácil de usar.
Acompanha software open source para design de máscaras KLayout (klayout.de)
Acompanha PC Windows® 10 64-bit pré-configurado e monitor para instalação plug-and-play.
Acompanha todos os cabos
Preço extremamente competitivo para orçamentos de universidades e de pesquisa e desenvolvimento industrial.
Pode ser atualizado posteriormente ao MicroWriter ML®3 Mesa ou Pro para melhor performance.
Certificação CE e em conformidade com EN-61010
Requerimento de energia monofásica 4A, 90-260 VAC, 50-60Hz